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    1

    電漿沉積氫化非晶矽/鍺薄膜於單晶矽/鍺晶片上的磊晶臨界溫度之研究
    • 化學工程系 /105/ 碩士
    • 研究生: 陳林震 指導教授: 洪儒生
    • 本論文乃以未來世代高效矽晶太陽能電池的技術發展為議題,針對矽 晶以及鍺晶可能製作矽、鍺異質接合,分別以射頻電漿輔助化學氣相沉積法將氫化非晶矽及氫化非晶鍺薄膜沉積於鍺晶及矽晶上,以反射式電子高能…
    • 點閱:305下載:1

    2

    以化學氣相沉積法於矽晶基材上的碳化矽及鍺異質磊晶成長之研究
    • 化學工程系 /97/ 博士
    • 研究生: 劉智生 指導教授: 洪儒生
    • 本論文的主題分為四部分: (1)以SiH4、C2H2和H2為反應物的低壓化學氣相沉積系統探討Si(111)上碳化緩衝層表面的石墨化及其對成長3C-SiC(111)磊晶膜的影響之研究; (2)以SiH…
    • 點閱:401下載:13

    3

    使用鍺甲烷超高真空化學氣相沉積法於矽晶圓上的異質奈米結構選擇性磊晶成長 之研究
    • 化學工程系 /93/ 碩士
    • 研究生: 曾柏淵 指導教授: 洪儒生
    • 摘要 關鍵詞:奈米結構、鍺量子點、超高真空、選擇性化學氣相沉積、超薄氧化層 本論文乃以鍺甲烷作為原料氣體的超高真空化學氣相沉積法,探討在Si(100)與SiO2/Si(100)基材上以選擇…
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    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)

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    III族元素修飾之奈米金自組裝陣列其電學性質之研究
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